半導(dǎo)體晶圓質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng)的主要技術(shù)指標(biāo)如下
更新時(shí)間:2022-01-17 點(diǎn)擊次數(shù):484
晶圓是一種常用的半導(dǎo)體材料,按其直徑分為4英寸、5英寸、6英寸和8英寸規(guī)格。由于電子產(chǎn)品的精度要求,非常有必要對(duì)單個(gè)元器件進(jìn)行100%可靠檢測(cè),及時(shí)有效地消除不良品,保證最終產(chǎn)品的質(zhì)量。由于工藝水平不同,晶圓生產(chǎn)階段可能存在三種缺陷:冗余、晶體缺陷和機(jī)械損傷。因此,高效、準(zhǔn)確的測(cè)試設(shè)備是提供高可靠性晶圓材料的保障。與傳統(tǒng)的人工檢測(cè)相比,
半導(dǎo)體晶圓質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng)視覺(jué)檢測(cè)具有精度高、效率高、連續(xù)性和非接觸式避免污染等優(yōu)點(diǎn)。半導(dǎo)體晶圓質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng)測(cè)試系統(tǒng)的主要技術(shù)指標(biāo)如下:
1、測(cè)試精度:可檢測(cè)1um以下的缺陷。
2、光源:人眼容易感知的綠光和黃光的復(fù)合光。
3、檢測(cè)系統(tǒng)配備工業(yè)相機(jī),可拍攝缺陷。
4、靈活的樣式,手持和桌面放置免提。
5、可調(diào)光照射范圍。
半導(dǎo)體晶圓質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng)通過(guò)快速光學(xué)掃描模塊和信號(hào)處理算法實(shí)現(xiàn)晶圓質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng)的實(shí)時(shí)共焦顯微圖像??蔀榘雽?dǎo)體晶圓、FPD產(chǎn)品、MEMS設(shè)備、玻璃基板、材料表面等提供各種解決方案。系統(tǒng)還內(nèi)置連接缺陷檢測(cè)系統(tǒng),可快速提供數(shù)據(jù)并檢測(cè)錯(cuò)誤。此外,該系統(tǒng)配備多視圖功能,以增強(qiáng)系統(tǒng)執(zhí)行其他亮視圖應(yīng)用的能力,包括檢測(cè)晶體管層中的缺陷,如STI、柵極和鎢絲。多視圖功能選件可以擴(kuò)展系統(tǒng)的檢測(cè)和放大功能,從而提高檢測(cè)平面缺陷的靈敏度,增加產(chǎn)量,降低成本。